Surface Morphology Evolution of Chemical Vapor-Deposited Tungsten Films on Si(100)

Authors

Luis Vázquez, CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM)
Roberto C. Salvarezza, Instituto de Investigaciones Fisicoquimicas Teoricas y Aplicadas (CONICET- Universidad Nacional de La Plata)
Ezequiel Albano, Instituto de Investigaciones Fisicoquimicas Teoricas y Aplicadas (CONICET- Universidad Nacional de La Plata)
Alejandro J. Arvia, Instituto de Investigaciones Fisicoquimicas Teoricas y Aplicadas (CONICET- Universidad Nacional de La Plata)
Alberto Hernández Creus, Universidad de la Laguna
Roland A. Levy, New Jersey Institute of Technology
José M. Albella, CSIC - Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid (ICMM)

Document Type

Article

Publication Date

1-1-1998

Identifier

0032072677 (Scopus)

Publication Title

Chemical Vapor Deposition

External Full Text Location

https://doi.org/10.1002/(SICI)1521-3862(199805)04:03<89::AID-CVDE89>3.0.CO;2-9

ISSN

09481907

First Page

89

Last Page

91

Issue

3

Volume

4

Recommended Citation

Vázquez, Luis; Salvarezza, Roberto C.; Albano, Ezequiel; Arvia, Alejandro J.; Hernández Creus, Alberto; Levy, Roland A.; and Albella, José M., "Surface Morphology Evolution of Chemical Vapor-Deposited Tungsten Films on Si(100)" (1998). Faculty Publications. 16561.
https://digitalcommons.njit.edu/fac_pubs/16561